JB/T 6922—2004 真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
Vacuum evaporation coating plant
本標(biāo)準(zhǔn)是對JB/T 6922一1993《真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備》的修訂
本標(biāo)準(zhǔn)與JB/T 6922-1993相比，主要變化如下:
— 增加了原標(biāo)準(zhǔn)的“4.1工作環(huán)境條件”的內(nèi)容;
一增加了4.3.6, 4.3.7, 4.4.12等條款;
— 糾正了某些錯誤概念，如將原標(biāo)準(zhǔn)的:“4.2.8...在產(chǎn)品說明書規(guī)定的參數(shù)范圍內(nèi)......”修訂為 “4 .2. 8...在產(chǎn)品設(shè)計要求規(guī)定的參數(shù)范圍內(nèi)......’。
本次修訂按GB/T 1.1-2000標(biāo)準(zhǔn)對JB/T 6922-1993的標(biāo)準(zhǔn)格式進行了調(diào)整
本標(biāo)準(zhǔn)代替JBfT 6922- 1993
1、范圍
JB/T 6922—2004 真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的型式和基本參數(shù)、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運輸、貯存等要求。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于極限壓力在5x10-4Pa-5 x10 -3Pa范圍的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備(以下簡稱設(shè)備)
2、規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)
GB/T191包裝儲運圖示標(biāo)志(GB/T 191-2000,e qvIS O7 80: 1997)
GB/T 6070 真空法蘭(GB/T6 070-1995,e qv ISO 1609: 1 98 6, V acuum technology-Flangedimensions)
GB/T 11164-1999 真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件
GB/T 13306 標(biāo)牌
JB/T 1090 J型真空用橡膠密封圈型式及尺寸
JB/T 1091 JO型和骨架型真空用橡膠密封圈型式及尺寸
JB/T 1092 O型真空用橡膠密封圈型式及尺寸
JB/T 7673 真空設(shè)備型號編制方法
3、型式與基本參數(shù)
3、結(jié)構(gòu)形式
設(shè)備主要由鍍膜室、蒸發(fā)系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機架、保護裝置及電氣控制裝置組成。
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